半導(dǎo)體超純水介紹主要用于生產(chǎn)超純水過程中去除TOC有機(jī)物，降低TOC出水指標(biāo)，使出水滿足美國(guó)ASTM超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)及電子工業(yè)部電子級(jí)水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

半導(dǎo)體超純水介紹

隨著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷發(fā)展，對(duì)清潔水的電導(dǎo)率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴(yán)格。由于超純水在許多指標(biāo)上對(duì)半導(dǎo)體的要求很高，因此半導(dǎo)體行業(yè)的超純水與其他行業(yè)的用水要求不同。半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)超純水有嚴(yán)格的水質(zhì)要求。目前，半導(dǎo)體所用的超純水需要達(dá)到的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)為:我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MQ.cm、15MO.cm、10MO.cm、2M.O.cm、0.5M.O.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))，我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)，國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)等。

那么，如何產(chǎn)出高質(zhì)量的半導(dǎo)體超純水?

建議采用“兩級(jí)RO+EDl+精混床除鹽水處理工藝”這類的超純水設(shè)備，可保證處理后的水電阻和電電阻達(dá)到18MO.cm以上。除了采用以上工藝外，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)也需要相對(duì)緊湊，這樣一來占地面積小可為企業(yè)節(jié)省大量建設(shè)空間。這種半導(dǎo)體超純水設(shè)備出廠前都是需進(jìn)行壓力測(cè)驗(yàn)的，所以出現(xiàn)故障概率小。還可以配備反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)，再次從根本上確保了水處理設(shè)備的出水質(zhì)量。

電子級(jí)水UV-TOC控制系統(tǒng)

半導(dǎo)體超純水介紹產(chǎn)品規(guī)格：

集成電路超純水應(yīng)用領(lǐng)域：

1. 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路板

2. 電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗

3. 電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

4. 黑白顯像管熒光屏的生產(chǎn)、波殼清洗、沉淀、洗膜、管頸清洗

5. 液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面清洗

6. 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

7. LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏的生產(chǎn)