半導體超純水介紹主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

半導體超純水介紹

隨著半導體工業的不斷發展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴格。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因此半導體行業的超純水與其他行業的用水要求不同。半導體行業對超純水有嚴格的水質要求。目前，半導體所用的超純水需要達到的水質標準為:我國電子工業部電子級水質技術標準(18MQ.cm、15MO.cm、10MO.cm、2M.O.cm、0.5M.O.cm五級標準)，我國電子工業部高純水水質試行標準，國內外大規模集成電路水質標準等。

那么，如何產出高質量的半導體超純水?

建議采用“兩級RO+EDl+精混床除鹽水處理工藝”這類的超純水設備，可保證處理后的水電阻和電電阻達到18MO.cm以上。除了采用以上工藝外，結構設計也需要相對緊湊，這樣一來占地面積小可為企業節省大量建設空間。這種半導體超純水設備出廠前都是需進行壓力測驗的，所以出現故障概率小。還可以配備反滲透預脫鹽技術，再次從根本上確保了水處理設備的出水質量。

電子級水UV-TOC控制系統

半導體超純水介紹產品規格：

集成電路超純水應用領域：

1. 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路板

2. 電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

3. 電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

4. 黑白顯像管熒光屏的生產、波殼清洗、沉淀、洗膜、管頸清洗

5. 液晶顯示器的生產、屏面清洗

6. 集成電路生產中高純水清洗硅片

7. LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏的生產